快科技7月17日消息，光刻機(jī)龍頭ASML現(xiàn)在宣布，全球首臺(tái)最強(qiáng)光刻機(jī)第二代High NA EUV已經(jīng)出貨。

按照官方的說法，EXE:5200是ASML對(duì)現(xiàn)有初代High NA EUV光刻機(jī)EXE:5000的改進(jìn)版本，首臺(tái)買家是英特爾，一臺(tái)售價(jià)近30億元。

相比初代High NA EUV光刻機(jī)EXE:5000來說，EXE:5200擁有更高的晶圓吞吐量（EXE:5000為每小時(shí)185片以上），可以更好的為2nm工藝量產(chǎn)做支撐。

TWINSCAN EXE:5000和EXE:5200均提供了0.55數(shù)值孔徑，比前代EUV光刻機(jī)0.33數(shù)值孔徑透鏡的精度提高了，可以為更小的晶體管功能提供更高分辨率的模式。

EUV 0.55 NA的設(shè)計(jì)旨在從2025年開始實(shí)現(xiàn)多個(gè)未來節(jié)點(diǎn)，這是業(yè)內(nèi)首次部署，隨后將采用類似密度的內(nèi)存技術(shù)。

需要注意的是，這種高精尖的光刻機(jī)，ASML是不可能賣給中國(guó)廠商的，這不是錢的問題，而是其他因素。