3.8億美元/臺(tái)!ASML將于今年向臺(tái)積電交付最新款光刻機(jī)
6月6日消息,據(jù)外媒報(bào)道稱,ASML將在今年向臺(tái)積電交付旗下最先進(jìn)的光刻機(jī),單臺(tái)造價(jià)達(dá)3.8億美元。
2024-06-06 09:50:15
來源:快科技??

快科技6月6日消息,據(jù)外媒報(bào)道稱,ASML將在今年向臺(tái)積電交付旗下最先進(jìn)的光刻機(jī),單臺(tái)造價(jià)達(dá)3.8億美元。

報(bào)道中提到,ASML首席財(cái)務(wù)官Roger Dassen在最近的一次電話會(huì)議上告訴分析師,公司兩大客戶臺(tái)積電和英特爾將在今年年底前獲得所謂的高數(shù)值孔徑(高NA)極紫外(EUV)光刻系統(tǒng)。

英特爾此前已經(jīng)訂購了最新的高NA EUV設(shè)備,第一臺(tái)設(shè)備已于12月底運(yùn)往俄勒岡州的一家工廠。

目前尚不清楚ASML最大的EUV客戶臺(tái)積電何時(shí)會(huì)收到設(shè)備。

據(jù)悉,這些機(jī)器每臺(tái)造價(jià)3.5億歐元(3.8億美元),重量相當(dāng)于兩架空中客車A320。ASML 是世界上唯一一家生產(chǎn)極紫外光刻技術(shù)的公司。

臺(tái)積電此前宣布,其2nm節(jié)點(diǎn)進(jìn)展順利,并計(jì)劃于2025下半年推出N3X、N2制,并將在2026下半年量產(chǎn)N2P和A16制程。

與3nm制程節(jié)點(diǎn)不同,臺(tái)積電2nm制程將使用Gate-all-around FETs(GAAFET)晶體管,相比3nm工藝會(huì)有10%到15%的性能提升,還可以將功耗降低25%到30%。

之前,有股東發(fā)言提及近華為發(fā)展晶圓代工相當(dāng)積極,向臺(tái)積電董事長劉德音請教如何評(píng)斷,劉德音表示,臺(tái)積電著重是自己發(fā)展的速度夠不夠快,臺(tái)積電永遠(yuǎn)有競爭對(duì)手。

“至于華為會(huì)不會(huì)超越臺(tái)積電,本來他想請總裁魏哲家回答,后來就直接說,總裁也不用回答了,因?yàn)榈静豢赡??!眲⒌乱粽f道。

此言一出,也是引起了行業(yè)專家的吐槽,有人甚至放話,如果沒有先進(jìn)光刻機(jī),你們恐怕什么也不是。

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